Mikroelektronika Industrio

Elektronikaj kemiaĵoj:ankaŭ konata kiel elektronikaj kemiaj materialoj. Ĝenerale rilatas al la uzo de specialaj kemiaĵoj kaj kemiaj materialoj en la elektronika industrio, ekzemple: elektronikaj komponantoj, presitaj cirkvitplatoj, ĉiaj kemiaĵoj kaj materialoj uzataj en la pakado kaj produktado de industriaj kaj konsumaj produktoj. Ili povas esti dividitaj en la jenajn erojn laŭ malsamaj aplikoj: bazplatoj, fotorezisto, galvanizaj kemiaĵoj, enkapsuligaj materialoj, altpurecaj reakciaĵoj, specialaj gasoj, solviloj, purigiloj, dopaĵoj antaŭ purigado, lutaĵmaskoj, acidoj kaj kaŭstikoj, elektronikaj specialaj gluaĵoj kaj helpmaterialoj, ktp. Elektronikaj kemiaĵoj estas diversaj, kun altaj kvalitpostuloj, malgrandaj dozoj, altaj postuloj pri media pureco, rapida produkta plibonigo, granda neta enfluo, alta aldonvaloro, ktp. Tiuj karakterizaĵoj fariĝas pli kaj pli evidentaj kune kun la disvolviĝo de la mikromaŝinada teknologio.

Celo de filtrado:

forigi partiklojn kaj koloidajn malpuraĵojn;

Filtraj postuloj:

1. Pro la alta viskozeco de la filtra fluido, la filtrila enfermaĵo normale devas povi elteni altan premon kaj mekanikan forton

2. Filtrilmaterialo devas havi bonan kongruecon;

3. Bona filtra efikeco por forigi partiklojn kaj koloidajn malpuraĵojn.

Filtrada agordo:

PCB-cirkvitplato estas ankaŭ nomata presita cirkvitplato, ĝi provizas la elektran konekton en la elektronikaj komponantoj. Laŭ la tavolo de la cirkvitplato, ĝi povas esti dividita en unu-panelan, du-panelan, kvar-tavolan, ses-tavolan kaj aliajn plurtavolajn cirkvitplatojn.

Celo de filtrado:

forigi partiklojn kaj koloidajn malpuraĵojn en la akvo aŭ likvaĵo;

Filtraj postuloj:

1. Alta flukvanto, alta mekanika forto, longa utila vivo.

2. Bonega filtra efikeco.

Filtrada agordo:

Filtrada Proceduro:

CMP signifas Kemia Mekanika Polurado. La ekipaĵo kaj konsumaĵoj uzataj en CMP-teknologio inkluzivas: polurmaŝinon, polurpaston, polurkuseneton, post-CMP-purigan ekipaĵon, polurfinan finpunktan detekton kaj procezkontrolan ekipaĵon, rubtraktadon kaj testan ekipaĵon, ktp.

CMP-polura solvaĵo estas speco de altpureca kaj malaltjona metalpolura produkto per speciala procezo de altpureca silicia pulvora krudmaterialo. Ĝi estas vaste uzata en nanoskala altplanariga polurado de diversaj materialoj.

Celo de filtrado:

forigi partiklojn kaj koloidajn malpuraĵojn;

Filtraj postuloj:

1. Malalt-solvebla substanco el filtrilmaterialo, neniu perdo de la materialo

2. Bona kapablo forigi malpuraĵojn, longa utila vivo.

3. Alta flukvanto, alta mekanika forto

Filtrada agordo:

Filtrada Proceduro: